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VOC废气处理解析恶臭废气处理设备的技艺原理

voc废气处理解析恶臭废气处理设备的技艺原理:
 
  1、光催化氧化是在外界可见光的作用下发作催化作用,光催化氧化反响是以半导体及空气爲催化剂,以光爲能量,将无机物降解爲CO2和H2O。本公司采用的半导体是如今反响功率的纳米TiO2光催化剂,经过特别处理后运用,抵达志向作用。
  2、在光催化氧化反响中,经过紫外光照射在纳米TiO2光催化剂上发作电子空穴对,与表面吸附的水份(H2O)和氧气(O2)反响生成氧化性很活波的羟基自在基(OH-)和超氧离子自在基(O2-、0-)。可以把各种废臭气体如醛类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物及其它VOC类无机物、无机物在光催化氧化的作用下恢复成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它无毒有害物质,一同具有除臭、消毒、灭菌的成效,由于在光催化氧化反响进程中无任何添加剂,所以不会发作二次净化。
  3、光催化氧化的特点:
  (1)光催化氧化适宜在常温下将废臭气体氧化成无毒有害的物质,适宜处理高浓度、气量大、波动性强的有毒无害气体。
  (2)有用污染:经过光催化氧化可间接将空气中的废臭气体氧化成无毒有害的物质,不留任何二次净化。
 
  (3)绿色动力:光催化氧化运用人工紫外线灯管发作的真空波紫外光作爲动力来活化光催化剂,驱动氧化—恢复反响,并且光催化剂在反响进程中并不消耗,运用空气中的氧作爲氧化剂,有用地降解有毒无害废臭气体成爲光催化浪费动力的特点。
  (4)氧化性强:半导体光催化具有氧化性强的特点,对臭氧难以氧化的某些无机物如三氯甲烷、四氯化炭、六氯苯、都能有用地加以分化,所以对难以降解的无机物具有特别含义,光催化的有用氧化剂是羟基自在基(OH-)和超氧离子自在基(O2-、0-),其氧化性高于罕见的臭氧、双氧水、高锰酸钾、次氯酸等。
  (5)广谱性:光催化氧化对从烃到羧酸的种类很多无机物都有用,即使对原子无机物如卤代烃、染料、含氮无机物、无机磷杀虫剂也有很好的去除作用,只需经过肯定时辰的反响可抵达污染。
  (6)寿数长:在实际上,光催化剂的寿数是有限长的,无需交换。
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